Laboratórium je zamerané na štúdium fyzikálnych vlastností materiálov a štruktúr akustickými metódami, k čomu slúžia 3 akustické spektrometre vybavené unikátnou technikou na generáciu a detekciu pozdĺžnych, priečnych a povrchových akustických vĺn ako i spracovanie a vyhodnotenie získaných akustických signálov. Ďalší špeciálny akustický spektrometer slúži na určovanie distribúcie častíc v kvapalných materiáloch Súčasťou laboratória sú aj 2 počítačom riadené magnety do 2T, ktoré umožňujú vyšetrovať magnetické a akustomagnetické vlastnosti látok a taktiež zariadenia na vyšetrovanie dielektrických vlastnosti materiálov.

Laboratórium je zamerané na štúdium čiastkových výbojov v plynnom i kvapalnom prostredí, v tuhých materiáloch a na ich rôznych rozhraniach. Používame oficiálne zariadenie na meranie a vyhodnocovanie čiastkových výbojov. Taktiež je možné merať prierazné napätia v spomenutých prostrediach. V laboratóriu sú dva vysokonapäťové jednosmerné zdroje do 10 a 55 kV a transformátorový zdroj striedavého napätia do 30 kV. V rámci štúdia sa tiež zameriava na degradáciu materiálov vplyvom čiastkových výbojov.

Laboratórium slúži na prípravu vzoriek, či už pre optické alebo akustické vyšetrovanie. Sú tu zariadenia na rezanie a brúsenie vzoriek, zariadenia na naparovanie, resp. nanášanie tuhých kovových vrstiev a digestory pre chemické operácie.

Laboratórium optiky sa zameriava na výskum a vývoj optických vlákien, optických vláknových senzorov, optických vláknových prvkov a optických materiálov.  Pri výskume sa využívajú a vyvíjajú rôzne typy interferenčných metód a interferometrov, metódy pre meranie absorpcie optického žiarenia vo vláknach a optických materiáloch a metódy pre meranie indexu lomu. Laboratórium disponuje rôznymi typmi polovodičových a plynových laserov, zdrojmi žiarenia vo viditeľnej a blízkej infračervenej oblasti, spektrometrami pracujúcimi v rozsahu vlnových dĺžok 350 až 2200 nanometrov a prvkami pre zobrazovaciu a vláknovú optiku. Laboratórium je zamerané aj na prípravu optických vlákien a vláknových štruktúr z rôznych typov optických materiálov. V laboratóriu sa vyvíjajú technológie prípravy optických vlákien, optických vláknových prvkov a mikrofluidných optických prvkov zo siloxánových polymérov, ako sú napr. polydimetylsiloxán LS 6941, LS 6943, LS 6946 a Sylgard 184.

Laboratórium disponuje špičkovými laserovými technológiami prípravy planárnych fotonických štruktúr. Základnou technológiou je interferenčná litografia, kde je možné dosiahnuť fotonické štruktúry s rôznou dvojrozmernou symetriou a rozlíšením na úrovni stoviek nanometrov. Ďalšia technológia ponúka možnosť vytvárať planárne štruktúry ľubovoľného usporiadania použitím zahrotených optických vláknových sond rastrovaním v blízkom poli. Táto technológia je známa ako litografia v blízkom poli. Koncepciu celkového laboratória uzatvára technológia priameho popisovania laserovým zväzkom, ktorou je možné vytvárať štruktúry rôzneho usporiadania v povrchoch rôznych materiálov so submikrometrovým rozlíšením. Laboratórium s uvedenými technológiami je pripravené pre implementáciu fotonických a ľubovoľných štruktúr s rozlíšením niekoľko stoviek nanometrov do povrchov prvkov optiky a optoelektroniky.

Laboratórium disponuje špičkovými diagnostickými nástrojmi pre pozorovanie nanoštruktúr a analýzu tenkých vrstiev. V danom laboratóriu je inštalovaný atómový silový mikroskop (AFM) s rozlíšením niekoľkých nanometrov a konfokálny laserový mikroskop pre 3D vizualizáciu mikro a nanoštruktúr. Tieto mikroskopy doplňujú technologické laboratórium, aby bolo možné pripravené prvky so submikrometrovým rozlíšením aj analyzovať. Pre analýzu tenkých vrstiev je laboratórium vybavené elipsometrom.